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砷化銦(InAs) 晶體 <100>取向單晶基片
發布時間:2022-04-28     作者:ysl   分享到:

砷化銦是由銦和砷構成的Ⅲ一V族化合物半導體材料。InAs是一種難于純化的半導體材料。非摻In.As單晶的剩余載流子濃度高于l×10/cm,室溫電子遷移率3.3×10^3cm/(V·s),空穴遷移率460cm/(V·s)。硫在In.As中的**分凝系數接近1,故用作n型摻雜劑,以提高縱向載流子濃度分布的均勻性。工業用的InAs(s)單晶,n≥1×10/cm3,μ≤2.0×10cm/(V·s),EPD≤5×10/cm。

砷化銦(InAs) 晶體

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小編:ysl2022.04.28


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