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PZT-NI磁電復合薄膜

PZTNi復合結構的制備工藝與PZT/Pt/Si 薄膜結構類似,即采用溶膠凝膠法在Ni基底上旋涂PZT溶膠后,接著進行烘干和熱裂解,重復以上步驟得到設計的厚度

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產品介紹

PZT-NI

產品名稱:PZT-NI

純度:98%

包裝:mg級和g級

貨期: 一周

地址:西安

廠家:西安齊岳生物科技有限公司

PZT-NI

PZT-Ni磁電復合薄膜的制備研究

PZTNi復合結構的制備工藝與PZT/Pt/Si 薄膜結構類似,即采用溶膠凝膠法在Ni基底上旋涂PZT溶膠后,接著進行烘干和熱裂解,重復以上步驟得到設計的厚度后,進行終熱處理,具體參數見二章。為了后續電學性能測試,需在PZT薄膜表面采用小型離子濺射儀濺射,直徑為0.1 mm的Pt電極,其示意圖及后續測量關系圖如圖3.2所示。

 

 

 

參數信息
外觀狀態: 固體或粉末
質量指標: 95%+
溶解條件: 有機溶劑/水
CAS號: N/A
分子量: N/A
儲存條件: -20℃避光保存
儲存時間: 1年
運輸條件: 室溫2周
生產廠家: 西安齊岳生物科技有限公司
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