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光電材料|Al/Cu厚度比和沉積順序?qū)ι漕l磁控濺射PET基片上ZnO/Al/Cu/ZnO多層膜光電性能的影響
發(fā)布時間:2022-02-22     作者:光電材料   分享到:

采用射頻磁控濺射技術(shù)在柔性聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)基片上制備了ZnO/Al/Cu/ZnO多層膜。中間體Al和Cu金屬層的總厚度保持在8?nm。


四種不同的Al/Cu厚度比分別為7:1、6:2、5:3和4:4。其他四種參考樣品采用相同的工藝制備,分別是ZnO單層膜、ZnO/Al8 (8 nm厚度的Al層,下同)/ZnO、ZnO/Cu8/ZnO和ZnO/Cu2/Al6/ZnO多層膜。


研究了Al/Cu層厚比和沉積順序?qū)l、Cu層厚度的影響。


結(jié)果表明:隨著Cu層厚度的增加,薄膜的片電阻減小,透光率先增大后減小;薄膜電阻為108?Ω/sq,平均可見光透過率為84.73%的ZnO/Al6/Cu2/ZnO多層膜具有**的整體光電性能,其最高優(yōu)值為1.77?×?10-3 Ω-1。


此外,ZnO/Cu2/Al6/ZnO和ZnO/Al6/Cu2/ZnO多層膜的平均可見光透過率和薄膜電阻幾乎相同,說明Al層和Cu層的沉積順序?qū)Ρ∧さ墓怆娦阅苡绊懖淮蟆?/span>


結(jié)果表明,ZnO/Al/Cu/ZnO多層柔性薄膜在各個領(lǐng)域都具有廣闊的應(yīng)用前景。

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