光電材料|缺陷豐富的二維網狀二硫化鉬單分子層:簡單的水熱制備和出色的光電性能
在MoS2單分子層中添加缺陷可以激活惰性基面并產生活性位點,從而改善MoS2單分子層的電子和光電性能。以表面活性劑黃原酸乙酯(C2H5OC(=S)SNa)為硫源,通過常規水熱法制備了具有二維網狀結構的富缺陷MoS2單分子層。
XRD、Raman光譜和FESEM/EDS分析結果表明,所制備的MoS2是一種富mo缺s的非晶態材料。HRTEM推斷,MoS2可能主要由單層組成,延伸至(100)平面。
AFM清楚地顯示MoS2納米片以富含缺陷的2D網狀單層存在,厚度約為0.62?nm。XPS進一步證實Mo和S有豐富的空缺。
富含缺陷的二維網狀MoS2具有良好的析氫活性,Tafel斜率為58.4?mV/dec,析氫電位為235?mV,電荷轉移電阻為4.99 Ω,雙層電容為19.63 mF/cm2。
通過產生**分離的光電子和空穴,實現了極佳的光電轉換。在可見光照射10?h的條件下,1?g MoS2光催化黃藥己基的降解量達到~ 3400?mg。
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