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酞菁|含羧酸基團(tuán)的外周四取代酞菁的合成、表征及光物理化學(xué)性質(zhì)
發(fā)布時(shí)間:2022-02-17     作者:酞菁   分享到:

合成了含羧酸基團(tuán)的外周四取代無(wú)金屬(H2Pc)、Mg(II) (MgPc)和In(III)CI (InPc)酞菁化合物,并利用多種光譜技術(shù)對(duì)其進(jìn)行了表征。


研究了這些化合物在DMSO、DMF和THF中具有良好的溶解度的光物理、光化學(xué)和聚集特性。用DMSO和DMF研究了這些酞菁在不同濃度下的聚集行為。


研究了DMSO和DMF的光物理化學(xué)性質(zhì),包括熒光光譜、量子產(chǎn)率、單重態(tài)產(chǎn)氧和光降解行為,以闡明這些化合物作為光敏劑的可用性。


此外,還研究了金屬離子的存在和不存在對(duì)這些酞菁光化學(xué)和光物理性質(zhì)的影響。與無(wú)金屬酞菁衍生物相比,金屬酞菁(Mg(II)和In(III)CI)具有較高的單重態(tài)產(chǎn)氧效率。


根據(jù)單線態(tài)產(chǎn)氧效率,我們可以說(shuō),金屬離子在酞菁環(huán)上的存在增加了單線態(tài)產(chǎn)氧。


結(jié)果表明,這些化合物在光動(dòng)力**(PDT)中具有潛在的光敏劑應(yīng)用前景。


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