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具有乏氧光毒性的鋨基光敏劑可用于光動力學
發布時間:2020-08-27     作者:HAPPY   分享到:

在**癥的**過程中,微環境乏氧會嚴重影響**的效果。北卡羅萊納大學格林斯博羅分校Colin G. Cameron和Sherri A. McFarland、意大利卡拉布里亞大學Marta E. Alberto報道了**金屬基光敏劑,并將其作為一種具有強力性能的光學**試劑。

本文要點:

(1)實驗以Os(phen)2為基礎支架,將其與一系列IP-nt配體相結合。研究發現,Os-4T (n=4)是該系列中活性高的復合物,其在常氧條件下的光學**指數(PI)超過106。并且,該光敏劑在乏氧(1% O2)和可見光或綠光照射下的PI>90 (EC50= 0.651 μM),而在紅光照射下PI>70。常氧條件下,Os- 4T在733 nm近紅外光照射下也具有活性(EC50 = 0.803μM, PI = 77)。

(2)這一系列化合物在黑暗中毒性相對較低,但隨著n的增加,其光毒性也會有增加。此外,Os-4T在小鼠體內的耐受劑量(MTD)為200 mg kg-1,證明這種光敏劑可以成為一種用于體內PDT的**藥物。

參考文獻:

John Roque III. et al. Breaking the Barrier: An Osmium Photosensitizer with Unprecedented Hypoxic Phototoxicity for Real World Photodynamic Therapy. Chemical Science. 2020

DOI: 10.1039/D0SC03008B

https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2020/sc/d0sc03008b#!divAbstract



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