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光電材料|利用H+、He+和N+離子束注入改性新型光電材料GaN
發布時間:2022-01-19     作者:光電材料   分享到:

后向散射光譜法和溝道法研究了氮化鎵的結構和晶體質量。采用金屬-有機氣相外延法在藍寶石上生長。將不同離子能量和劑量的H+、He+、N+注入GaN中。對植入后退火進行了研究。通過霍爾測量,我們發現特定溫度退火后電阻率增加了7-8個數量級,H+、He+和N+的優化退火溫度分別約為200-400℃。即使在600-700℃退火后,電阻率仍然很高。我們認為,氮化鎵樣品的電阻率變化是由空位和植入的放射性損傷引起的。

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