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光電材料|柔性PET掩膜增強激光退火下f摻雜SnO2薄膜的形貌、結(jié)構和光電性能
發(fā)布時間:2022-01-14     作者:光電材料   分享到:

激光退火對提高透明導電氧化物(TCO)基薄膜的性能具有重要意義。

在本研究中,我們進一步開發(fā)了簡單的柔性聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)掩膜增強激光退火(FPLA)工藝,通過在薄膜表面覆蓋透明PET片,實現(xiàn)氟摻雜氧化錫(FTO)薄膜的性能改善。

通過分析薄膜的表面形貌、表面粗糙度、晶體結(jié)構和光電性能,

確定了包含掃描速度和掃描線間距的FPLA掃描控制策略。

結(jié)果表明,在**掃描速度為10 mm/s、掃描線間距為20 μm時,逐行往返掃描可獲得更**的FPLA效果。

取得時的FTO電影展出low-fluctuated表面明顯擴大和致密顆粒,**的均方根粗糙度,

**的粒度,從而**品質(zhì)因數(shù)為3.05×10?2Ω?1,這是直接的約1.8倍laser-annealed FTO電影使用相同的參數(shù)。

通過SEM、EDX和XPS表征進一步驗證了PET片在FPLA膜材料再沉積和**氧空位減少方面的**性。

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