光電材料|ZnO量子點薄膜作為有前途的電子輸運層:表面體積比對光電性能的影響
采用低溫溶劑熱法制備了平均粒徑為4.4 nm的ZnO量子點。
以ZnO QD溶液為原料,采用旋轉鍍膜技術制備了ZnO QD薄膜,并分別在250、350和450℃退火。
隨著退火溫度升高至450℃,ZnO的平均晶粒尺寸和能帶隙分別由5.5 ~ 22.9 nm和3.37 ~ 3.27 eV增大和減小。
光致發光分析表明,包覆ZnO薄膜和250℃退火的ZnO薄膜中存在高密度的氧空位;這些缺陷在溫度升高到350和450°C時減少。
薄膜的光電性能受晶粒尺寸和薄膜中缺陷的影響較大。
隨著溫度升高到450℃,光暗電流比(PDCR)從3723降低到371%,而響應率從1.25增加到218 mA/W。
as涂層和250°c退火的薄膜由于其更大的表面與體積比,在PDCR、上升時間和下降時間方面具有更好的光響應,使其成為鈣鈦礦太陽能電池中的電子傳輸層。
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