酞菁|酞菁鋅具有巰基和巰基功能化的硫空位MoS2增強其三階非線性光學性質
帶巰基和6-巰基的酞菁鋅首次被用于硫空位MoS2的功能化。
進一步采用滴涂法制備MoS2/ZnPc復合材料為PVA(聚乙烯醇)薄膜。
對MoS2/ZnPc復合材料的微觀結構和光物理性能進行了表征。
一系列分析結果表明,含硫基和6-巰基的酞菁鋅通過配體偶聯作用于MoS2的硫空位上。
采用開孔z掃描技術研究了MoS2/ZnPc復合材料在532 nm、4 ns激光脈沖寬度下的三階非線性光學特性。
與單獨的MoS2或ZnPc相比,MoS2/ZnPc溶液或MoS2/ZnPc/PVA薄膜樣品具有更大的三階非線性吸收系數(β)和更低的**閾值(F50)。
這可以歸結為MoS2/ZnPc復合材料NLO吸收機制的不同組合,包括MoS2的單光子吸收、雙光子吸收和非線性散射、ZnPc的三重態激發態吸收、MoS2/ZnPc的非線性散射和MoS2與ZnPc之間的光誘導電子轉移或能量轉移(PET/ET)過程。
更多推存:
cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁鈀 (II)
cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)
四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號: 85214-70-6
二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒
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