拓?fù)淙毕輰?duì)游離基H2Pc和兩種三維金屬衍生物(CuPc和ZnPc)與石墨烯薄片模型相互作用的結(jié)合強(qiáng)度、幾何形狀和電子參數(shù)的影響。
將含有孤立五邊形(5)、吡啶基(5665)和Stone-Wales (SW)缺陷的聚類模型與無(wú)缺陷的石墨烯模型(G)的DFT計(jì)算結(jié)果進(jìn)行了比較。
石墨烯表面的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)對(duì)通常為平面的酞菁分子的形狀有很強(qiáng)的影響。
在原始和含SW缺陷的模型上,石墨烯大環(huán)總體上保持平坦,但在大多數(shù)情況下,孤立的五邊形缺陷和吡喃基單元的存在會(huì)導(dǎo)致酞菁體系的強(qiáng)烈畸變,從而增加其與石墨烯片的接觸面積。
從而提供了兩種組分間更**的π-π堆積作用。
在錐形5和5665納米團(tuán)簇的情況下,“endo”吸附的宏觀環(huán)畸變比“exo”吸附的宏觀環(huán)畸變更明顯;反過(guò)來(lái),5665型號(hào)的曲度更尖銳,更強(qiáng)。
所有研究的配合物的非共價(jià)鍵都很強(qiáng),按5665_exo <5_exo <5665_endo <G & lt;西南。
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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁鈀 (II)
cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)
四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號(hào): 85214-70-6
二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒
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