酞菁|通過金屬酞菁顯現提高Ti-MOF的光催化活性降解有害紡織品顏料
酞菁具有獨特的吸附和光敏特性,是一種很有前途的光催化材料。
本文制備了三個以Al3+和Co2+離子為中心金屬的酞菁(Pcs)衍生物,并將其吸附在MOFs基體上。
研究了亞甲基藍(MB)和甲基橙(MO)及其混合物在可見光下的光催化降解性能。
NH2-MIL-125、Al-PcCl@NH2-MIL-125、CoPc@NH2-MIL-125和CoPcPA@NH2-MIL-125的光催化劑降解率分別為0.01、0.012、0.035和0.046 min?1 MB,而MO的降解率分別為0.021、0.027、0.052和0.082。
令人驚訝的是,在MO存在下,MB的光催化降解速率提高,降解速率分別為0.066、0.069、0.085和0.120 min?1。
本研究說明了多孔mof基材料不僅作為載體,而且作為電子受體的高性能,提高了光穩定性和光催化活性。
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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁鈀 (II)
cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)
四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號: 85214-70-6
二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒
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