核殼結(jié)構(gòu)的SiC@SiO2納米線制備環(huán)氧/SiC@SiO2復合材料過程
使用像SiC納米線(NWs)這樣的新型具有**物理性能的填充物,可以獲得具有非常低的CTE,不匹配硅性質(zhì)的新型電子封裝復合材料。下文介紹核殼結(jié)構(gòu)的SiC@SiO2納米線制備環(huán)氧/SiC@SiO2復合材料過程。
1)制備核殼SiC@SiO2 NWs,將所需數(shù)量的SiC,NWs添加到石墨坩堝,放置在空氣中的高頻加熱爐從室溫加熱到1500°C,加熱時間分別維持在15、20、25和60秒。
在不同加熱時間下SiC納米線表面SiO2殼層的厚度變化情況
將所需數(shù)量的 Nd(III)acac 添加進一個脂環(huán)族的環(huán)氧樹脂,隨后在80°C三頸燒瓶中攪拌2 h。然后將均勻溶液冷卻到室溫。在一個超聲水浴中,在乙醇中分離出所需量(0.5、1.0、1.5、2.0、2.5 wt %),然后加入預測定的環(huán)氧樹脂量在超聲波環(huán)境下持續(xù)0.5小時。統(tǒng)一形成的混合物被放置在一個燒杯中在80°C水浴下機械攪拌,直到乙醇完全蒸發(fā)。將固化劑以100:95(環(huán)氧:固化劑)比例加入燒杯,攪拌20分鐘。得到的混合物在真空烤箱中進一步脫氣10分鐘以去除氣泡。最后,均勻分散SiC@SiO2 NWs的環(huán)氧樹脂混合物在135°C下穩(wěn)定 2 h,在165°C下穩(wěn)定14 h。固化過程后,樣品自然冷卻到室溫,然后用砂紙打磨成不同的形狀。
實驗結(jié)果表明添加2.5 wt%的SiC@SiO2 NWs在環(huán)氧樹脂中,其導熱系數(shù)達到了0.391 Wm-1K-1,相比純環(huán)氧樹脂提高了79.4%,SiC@SiO2 NWs相比于SIC NW的親水性也有提高(如圖1所示),同時熱穩(wěn)定等性能也有一定程度地提高(如圖2所示)。另外對比研究了SiC@SiO2納米線與SiC納米線對環(huán)氧樹脂導熱等性能的影響,環(huán)氧/SiC@SiO2復合材料的性能均優(yōu)于環(huán)氧/SiC復合材料。這種新型環(huán)氧樹脂復合材料將在電子封裝等領域具有很好的應用前景。
西安齊岳生物可以提供各種不同長度的納米金線,納米鈀線,納米銠線,納米釕線,納米鋨線,納米銥線,納米鉑線,納米銀線,CdS納米線,CdSe納米線,InAS納米線,ZnSe納米線等,并且我們可以提供官能團修飾、蛋白修飾、酶修飾、DNA修飾、殼聚糖、多肽、葉酸等修飾偶連各種納米線的定制合成技術(shù)。
SiC碳化硅納米線
鑭/釔摻雜氮化硅納米線
P納米顆粒修飾SiC納米線
Co-P納米薄膜修飾SiC納米線
SiC納米線\SiC納米棒\SiC晶須
碳化硅納米線,SiC nanowires
Au納米顆粒修飾SiC納米線
超長碳化硅納米線的化學修飾
La-N共摻SiC納米線
La2O3修飾改性SiC納米線
貴金屬納米粒子修飾SiC納米線
Pt、Pd和Ag修飾SiC納米線
原位生長SiC納米線增強C/SiC復合材料
b摻雜sic納米線
N摻雜SiC納米線
疏水性非晶碳包覆層對SiC納米線
3C-SiC納米線
SiC納米線修飾MoS2納米片
六方柱狀SiC納米線
Si襯底上生長SiC納米線
碳化硅納米線增強C/CSiCZrB
SiC納米線薄膜
柔性且超輕的SiC納米顆粒修飾碳纖維墊
石墨烯/碳化硅納米線復合材料
SiC納米線改性環(huán)氧樹脂
SiC納米線/環(huán)氧樹脂復合材料
SiC納米線的改性
竹節(jié)狀SiC納米線
B摻雜SiC納米線
碳納米管碳化硅納米線復合材料
碳化硅納米線(SiCNWs)修飾偶聯(lián)
超長碳化硅(SiC)納米線
SiC納米線增強SiCf/SiC復合材料
C/SiC復合材料表面制備SiC納米線
定向排列的SiC納米線的復合材料薄片
六棱柱狀的SiC納米線
SiC納米線增強鋁碳化硅復合材料
碳/碳復合材料SiC納米線
SiC納米線摻雜SiOC陶瓷粉體
碳化硅納米線混雜增強鎢酸鋯/鋁復合材料
SiC納米線增強C/CSiCZrC陶瓷基復合材料
碳化硅納米線增強石墨-碳化硅復合材料
碳化硅納米線/碳纖維布復合材料
碳化硅納米線/石墨烯泡沫電磁波吸收復合材料
SiC納米線改性的CF/PI復合材料
具有表層網(wǎng)狀分布碳化硅納米線
SiC納米線改性C/C復合材料
ZrB_2/SiC復合材料SiC納米線增韌碳化硅納米線(SiCNW)
核殼SiC@SiO2 NWs
雙層石墨烯/碳化硅襯底上W6Te6范德華納米線
以上資料來自西安齊岳生物小編(zhn2021.03.03)