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籠型倍半硅氧烷的合成步驟
發布時間:2021-01-08     作者:zl   分享到:

1、簡介

  多面體低聚倍半硅氧烷(Silsesquioxane,簡稱POSS)是一類納米尺度的低聚硅氧烷俗稱籠型倍半硅氧烷,結構簡式為(RSiO3/2)n。其中R基團可被乙烯基、氨基、苯基、氫原子,烷基等各類有機基團代替,生成一種新的POSS,POSS化合物中的Si原子與О原子的比例為1:1.5,n可以為6、8、10、12等,形成不同結構。倍半硅氧烷根據其結構可分為無規、梯形、橋型和籠型等不同類型,當分子式中 n為偶數時,這類化合物會形成**的研究多的籠形倍半硅氧烷。同時,POSS根據不同的結構封閉程度,可以分為兩類:半縮合的POSs與全縮合的POSs 。[1-2]當n=8時的POSs是研究多的一種,稱為立方T8,三維尺寸為 1.5nm。POSS 以 Si-O-Si鍵為主體框架,Si-O鍵的鍵能為443.7kJ/mol,Si-O-Si的鍵長較長,鍵角大,容易旋轉,鏈主要為螺旋結構并且柔性大,因此鏈之間的相互作用力小,表面張力小,熱穩定性好。根據這些性質得POSS在無催化劑時結構相對穩定。

結構決定性能,POSS具有許多**的性能,比如:高的熱穩定性、良好的介電性能、**的溶解性、阻燃性。[3l這都歸因于它具有完全雜化的籠狀結構和它的納米級結構。POSS 的兩大特點使得它在聚合物改性方面擁有了巨大的發展前景。

POSS是新發展起來的一種高性能有機無機雜化材料,以POSS為無機成分,無機相與有機相間通過強的化學鍵結合,不存在無機粒子的團聚和兩相界面結合力弱的問題,因此很容易通過共聚、接枝或共混等方式與聚合物基體進行復合制備。POSS/聚合物納米復合材料的綜合性能**,主要表現在:(1)使復合材料的使用溫度增加;(2)提高復合材料的力學性能;(3)改善復合材料的加工性能;(4)使復合材料具有**的加工性能;(4)使復合材料具有**的延遲燃燒特性;(5)多功能化,將POSS作為封端基或交聯固化中心,獲得滿足不同需要的改性聚合物。主要應用在光固化樹脂4、航空領域、醫藥材料和化妝品S'、多孔材料[6'和改性高分子聚合物7這幾方面。

近年來,POSS利用納米技術在有機或無機材料的納米尺度上進行修飾,制備出性能大幅度提高的納米復合材料l8'。這種新型的有機/無機納米雜化材料,是一類高分子材料的多功能新組分,已經應用到一些高新技術領域中去。但是國內外關于以POSS作為前軀體合成新型催化劑的研究和報道較少,POSS本身良好的結構為我們提供了廣闊的研究空間。而且POSS的合成方法主要包括直接水解縮合法、頂點-蓋帽法、官能團衍生法、側基轉化法、硅氫化反應和籠型倍半硅氧烷的結構重排等,其中直接水解縮合法、頂點-蓋帽法、官能團衍生法為主要的三種合成方法。采用不同的合成方法制備出帶有不同官能團的POSS,其結構與性能也是多種多樣,本文主要用水解縮合法分別制備八乙烯基倍半硅氧烷(OvPOSS)、八苯基倍半硅氧烷(OPS)、八氨基倍半硅氧烷(OapPOSS),并對產物進行表征以及熱性能分析,三種不同官能團POSS的立體結構圖如圖1所示:

image.png

1 POSS的立體結構圖

實驗步驟

1、八乙烯基 POSS的制備

步驟一250 mL三口燒瓶中加入20 mL 乙烯基三甲氧基硅烷,200 mL乙酸乙酯,20 ℃下攪拌30分鐘

步驟二然后加入30 mL鹽酸,70mL去離子水,保持溫度為20 ℃,機械攪拌,反應時間為3天,將溶液離心并40 ℃真空干燥24 h

步驟三再用甲醇清洗并用四氫哄喃重結晶,終得到白色產物。

2、八苯基 POSS 的制備

250 mL三口燒瓶中加入28 g 苯基乙氧基院,75 ml 無小T和械拌,氧化鉀,放于油浴鍋上加熱并機械攪拌,

待溫度升至110℃后加入4 ml去離子水,保持油浴110℃并機械攪拌,冷凝回流,反應時間為4天,將產物離心出來,用無水甲醇清洗,在真空干燥箱中40 ℃干燥24 h,終得到白色產物。

3、八氨基POSS的制備

250 ml三口燒瓶中加入90 ml甲醇,在磁力攪拌下加入4 ml y-氨丙基三乙氧基7.5 ml 鹽跋,o變渾然后加入62.5 ml 四氫吠喃,溶液立刻變渾濁,有白色沉淀生成。將產物離心,并用四氫呋喃清洗,得到白色產物,放入40℃真空干燥箱干燥24 h,得到白色固體。

齊岳生物供應多種POSS產品

機縮水甘油基化籠形倍半硅氧烷 (50 wt. % EP0409 Solution in PGMEA)
納米二氧化硅分散環氧籠形倍半硅氧烷OctaGlycidyl dimethylsilyl POSS
三氟丙基化籠形倍半硅氧烷Trifluoropropyl POSS Cage Mixture
三氟丙基異丁基化籠形倍半硅氧烷TrifluoropropylIsobutyl POSS
氯芐基異丁基化籠形倍半硅氧烷Chlorobenzyl Isobutyl POSS
氯芐基乙基異丁基化籠形倍半硅氧烷Chlorobenzylethyl Isobutyl POSS
氯丙基異丁基化籠形倍半硅氧烷Chloropropyl Isobutyl POSS
甲基丙烯酸異丁酯化籠形倍半硅氧烷MethacryloIsobutyl POSS
甲基丙烯酸異丁酯化籠形倍半硅氧烷Methacrylate Isobutyl POSS
甲基丙烯酸乙酯化籠形倍半硅氧烷Methacrylate Ethyl POSS
甲基丙烯酸乙酯化籠形倍半硅氧烷MethacrylEthyl POSS
甲基丙烯酸異辛酯化籠形倍半硅氧烷Methacrylate Isooctyl POSS
甲基丙烯酸異辛酯化籠形倍半硅氧烷MethacrylIsooctyl POSS
甲基丙烯酸化籠形倍半硅氧烷Methacryl POSS Cage Mixture
甲基丙烯酸納米二氧化硅分散體Nanosilica Dispersion Methacrylate POSS
十二苯基化籠形倍半硅氧烷DodecaPhenyl POSS
異辛基化籠形倍半硅氧烷Isooctyl POSS Cage Mixture
苯基異丁基化籠形倍半硅氧烷PhenylIsobutyl POSS
苯基異辛基化籠形倍半硅氧烷PhenylIsooctyl POSS
八異丁基化籠形倍半硅氧烷OctaIsobutyl POSS
八甲基化籠形倍半硅氧烷OctaMethyl POSS
八苯基化籠形倍半硅氧烷OctaPhenyl POSS
八角形籠形倍半硅氧烷OctaTMA POSS
八甲基硅氧基形倍半硅氧烷OctaTrimethylsiloxy POSS
1,3-雙(降冰片烯乙基)-1,1,3,3,-四甲基二硅氧烷1,3-Bis(Norbornenylethyl) -1,1,3,3,-tetramethyldisiloxane
降冰片烯乙基二甲基氯硅烷Norbornenylethyl dimethylchlorosilane
降冰片烯乙基二硅醇異丁基化籠形倍半硅氧烷Norbornenylethyl DiSilanolIsobutyl POSS
三降冰片烯基異丁基化籠形倍半硅氧烷TrisnorbornenylIsobutyl POSS


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